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초고온램프어닐링장치 HT-RTA59HD

SiC 등 고가의 시료나 기타 고융점 재료의 조각 시료를 스폿 가열에 의한 높은 반사효율로서
초고온 영역 1800 ℃까지 승온 가능한 탁상형 초고온 램프 어닐링 장치입니다.

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■ High Temperature Rapid Thermal Annealing System HT-RTA59HD

SiC 등 고가의 시료나 기타 고융점 재료의 조각 시료를 스폿 가열에 의한 높은 반사효율로서

초고온 영역 1800 ℃까지 승온 가능한 탁상형 초고온 램프 어닐링 장치입니다.

This desktop ultra-high temperature annealing system achieves high reflection efficiency by heating in a focused manner precious materials like SiC and other small materials with high melting points and is capable of heating up to ultra-high temperature range of 1800 °C

■ 용도

SiC (GaN) 파워 디바이스 프로세스의 산화막 형성, 활성화 어닐링의 연구 · 개발
기타 반도체 공정의 연구 · 개발
유리, 세라믹, 복합 재료 등의 열처리
세라믹스 재료의 열충격 시험
고 융점 금속 재료의 소결 등 각종 열처리 시험
온도 구배로
가스 분석용 가열로
Oxide film formation in SiC(GaN) power device process, Research and development of activation annealing
Research and development of semiconductor process
Heat treatment of glass substrate, ceramics, composite materials etc.
Thermal shock tests of ceramics materials
Various heat treatment tests such as sintering of metal materials with high melting points
Usable as a temperature gradient furnace
Usable as a heating furnace for gas analysis

■ 특징

초고온 1800 ℃까지 10초 가열이 가능
타원 반사면에 고출력 램프를 탑재한 스폿 집광로
Cold Wall 구조에 의한 급속 가열 / 냉각과 크린 가열이 가능
가열로와 석영 챔버를 일체화한 탁상형
온도 레시피는 USB 연결한 PC에서 쉽게 입력
가열중의 온도 데이터를 PC 화면에 표시 가능 (텍스트 파일로 저장도 가능)
Capable of heating up to ultra-high temperature of 1800 °C in 10 seconds
Spot focused furnace with high-power lamps built on ellipsoidal reflective surface
Cold Wall enables rapid-heating & cooling and clean-heating
Desktop type with a heating furnace integrated with a quartz chamber
Easy input of temperature recipe through PC connected with USB
Capable of displaying temperature data on PC screen during the heating (Saving data in a text file is also available.)

■ 사양

모델	HT-RTA59HD
온도 범위	실온 ~ 1800 ℃ (최고 2000 ℃)
시료 크기	사각 15mm × 두께 1mm
온도 센서	JIS B 열전대 (W-Re에도 대응 가능)
소요 전원	AC 200V 40A 8kW

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