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펄스 진공 아크 방전을 이용한 새로운 나노 입자 형성장치입니다.
펄스 진공 아크 증착은, 심플한 공정으로 금속 이온을 생성하고, 초박막이나 나노 입자를 형성하는 유일한 방법입니다.
미립자의 형성 등 다른 증착법으로는 얻을 수 없는 효과를 발휘합니다.

■ Arc-Plasma method nano-particle Deposition System APD series

펄스진공 아크 방전을 이용한 새로운 나노 입자 형성장치입니다.

미립자의 형성 등 다른 증착법으로는 얻을수 없는 효과를 발휘합니다.

A new nanoparticle deposition systemusing pulse vacuum arc discharge.

Pulse vacuum arc deposition is a uniquetechnique to deposit ultra-thin films and nanoparticles by generating metalions in a simple process.

It can achieve an effect that cannot be obtained withother deposition methods such as particle deposition.

■ 용도

• APD-P (분말에 나노 입자 담지용)

나노입자를 이용한 연료전지 촉매, 배기가스 촉매, 광 촉매

VOC 분산 촉매, 탄소나노튜브 촉매, 플라스몬

• APD-S (기판 성막용)

금속박막(자성, 플라스몬, 보호막)

• APD-H (수소 프로세스를 사용한 기판 성막용)

DLC를 이용한 기계부품마모 코팅

초미세결정 다이아몬드를 이용한 렌즈 금형 코팅

• APDT-1S (탁상형 간이 성막용)

기판성막용, DLC 탄소나노튜브 촉매

■ 특징

• APD-P

나노입자를 분체 등에 담지 가능.

• APD-S

나노미터정도 두께의 막에서부터 μm오더의 두께 제어까지 펄스 수로 쉽게 막 두께 제어 가능.

• APD-H

결정다이아몬드처럼 단단하고, 열전도성, 내열성이 우수한 ultra-microcrystal diamond를 직접 성막 가능.

• APDT-1S

나노미터레벨 두께의 막을 펄스 수로 쉽게 막 두께 제어 가능.

■ 사양

모델	APD-P	APD-S	APD-H	APDT-1S
온도 범위	RT (※)	500 ℃	500 ℃	RT (※)
시료 치수	분말 20cc	2in	2in	2in
증착 분위기	진공	진공	진공	진공
증착원 수	기본적인 증착 재료 (타겟)　 Pt, Au, Ag, Fe, Ni, Al 증착원은 고객 요구에 따라 검토 · 제안해 드립니다			1 증착원

※ 옵션으로 500℃까지 증착가능

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